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碳化硅缺陷檢測設備(NOVA-2000)，用于SiC拋光襯底片和同質外延片的缺陷檢測，針對SiC缺陷的多樣性設計專用多通道光學檢測系統和缺陷自動檢測分類算法，對微管、層錯、三角形缺陷、臺階聚集等各類缺陷進行檢出和提取分類，對SiC質量控制和工藝提升有顯著作用。

激光共聚焦顯微鏡(LCM-2000)，具備光學顯微成像與激光共聚焦成像雙重檢測模式，主要用于各類材料的表面形貌與表面缺陷的三維檢測分析。

多光譜智能透鏡外觀檢測儀(AOSI-4000S)，主要用于各類光學元件、光學晶體、光學陶瓷的全自動表面質量檢測。 本設備自動化程度高，批量上料，自動送檢，智能檢測，根據檢測結果智能分揀，并生成統計日志。檢測結果可根據需求進行保存，保證檢測結果可溯源性。

玻璃晶圓缺陷檢測設備(NOVA-2000-G)，是用于透明或半透明玻璃晶圓襯底的缺陷檢測設備，可檢出顆粒物、劃痕、凹坑、凸起、崩邊、裂紋等缺陷，對透明晶圓的質量控制具有重要作用。 玻璃晶圓缺陷檢測設備集成明場、暗場等多種檢測模式，對各類缺陷提供可靠的缺陷信息，結合缺陷自動檢測與分類算法，提取包括缺陷類型、尺寸、坐標、統計數據等在內的各項缺陷數據，生成晶圓缺陷檢測報告供用戶進行質量評估和判定。

光學吸收測量儀(標準版)PTS-2000/PTB-2000，是一種基于激光誘導效應的光學檢測設備。可以對光學薄膜、光學晶體、激光晶體、各類石英等材料進行吸收缺陷測量和吸收均勻性分布測量。

半自動智能透鏡外觀檢測儀(OSI-4000S)，主要用于光學透鏡的外觀質量檢測，具有整盤上下料、自動檢測、標準選擇或自定義、自動判斷OK/NG、結果輸出等功能。 設備配備特殊設計的光學檢測系統，針對透鏡元件復雜多變的面型和鍍膜工藝，高靈敏度的檢出包括劃痕、麻點在內的各類外觀缺陷，相比人工具備可靠的穩定性和可重復性。

鈮(鉭)酸鋰缺陷檢測設備(NOVA-2000-LN)，是用于鈮酸鋰、鉭酸鋰等襯底晶圓的缺陷檢測設備，可兼容黑化、半黑化、全透明等不同工藝類型，可檢出顆粒物、劃痕、凹坑、凸起、崩邊、裂紋等缺陷，對晶圓的質量控制具有重要作用。 鈮(鉭)酸鋰缺陷檢測設備(NOVA-2000-LN)集成明場、暗場等多種檢測模式，對各類缺陷提供可靠的缺陷信息，結合缺陷自動檢測與分類算法，提取包括缺陷類型、尺寸、坐標、統計數據等在內的各頂缺陷數據，生成晶圓缺陷檢測報告，供用戶進行質量評估和判定。

光學吸收測量儀(簡化版)PTS-1000/PTB-1000,專為薄膜、晶體、熔石英玻璃等光學材料和元件設計用于表面和體吸收特性的精密測量分析。

平面元件外觀缺陷檢測設備(AOSI-4000F)主要用于平面光學元件的全自動外觀質量檢測，具有自動化程度高，批量上下料，自動傳送，智能檢測，根據檢測結果智能分選，并生成每個元件的檢測報告。設備可生成檢測日志，按不同時間周期進行元件檢測數量、缺陷檢測類型比例等條件進行日志生產，觀察生產良率變化，對生產工藝改進做出指導。

深紫外光學吸收測量儀(PTS-DUV-2000/PTB-DUV-2000)，是一款基于激光誘導光熱檢測技術，專為深紫外波段光學材料和元件吸收特性檢測分析而開發的高靈敏度精密光學測試儀器。

圖形晶圓缺陷檢測設備(AMM1-2000)，用于半導體制造的前道檢測，對圖形晶圓的宏觀缺陷，如劃痕、顆粒臟污、腐蝕、圖形結構缺陷等進行檢測，對集成電路芯片的性能和可靠性保證有重要作用。AMMI-2000集成明場、暗場等多種檢測模式，對圖形晶圓各類缺陷提供可靠的缺陷信息，結合缺陷自動檢測與分類算法，提取包括缺陷類型、尺寸、坐標、統計數據等在內的各項缺陷數據，生成晶圓缺陷檢測報告供用戶進行質量評估和判定。

激光量熱吸收測量儀 (LC-2000), 是一種基于激光量熱法測量光學元件弱吸收的光學檢測設備。 由泵浦激光對光學元件進行輻照加熱，采用高精度溫度探測器對激光輻照區域進行溫度測量，從而獲 得光學元件對該波長下的激光的吸收信息。 LC-2000 適用于各類光學薄膜和光學元器件吸收率的檢測和分析。根據客戶具體需求，可進行紫外 可見或者近紅外波段的精密測量。對于光學材料質量生產指導具有重要作用。