工業應用設備
半導體晶圓缺陷檢測設備
01
碳化硅缺陷檢測儀
碳化硅缺陷檢測設備(NOVA-2000)，用于SiC拋光襯底片和同質外延片的缺陷檢測，針對SiC缺陷的多樣性設計專用多通道光學檢測系統和缺陷自動檢測分類算法，對微管、層錯、三角形缺陷、臺階聚集等各類缺陷進行檢出和提取分類，對SiC質量控制和工藝提升有顯著作用。
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02
玻璃晶圓缺陷檢測設備
玻璃晶圓缺陷檢測設備(NOVA-2000-G)，是用于透明或半透明玻璃晶圓襯底的缺陷檢測設備，可檢出顆粒物、劃痕、凹坑、凸起、崩邊、裂紋等缺陷，對透明晶圓的質量控制具有重要作用。 玻璃晶圓缺陷檢測設備集成明場、暗場等多種檢測模式，對各類缺陷提供可靠的缺陷信息，結合缺陷自動檢測與分類算法，提取包括缺陷類型、尺寸、坐標、統計數據等在內的各項缺陷數據，生成晶圓缺陷檢測報告供用戶進行質量評估和判定。
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03
鈮（鉭）酸鋰缺陷檢測設備
鈮(鉭)酸鋰缺陷檢測設備(NOVA-2000-LN)，是用于鈮酸鋰、鉭酸鋰等襯底晶圓的缺陷檢測設備，可兼容黑化、半黑化、全透明等不同工藝類型，可檢出顆粒物、劃痕、凹坑、凸起、崩邊、裂紋等缺陷，對晶圓的質量控制具有重要作用。 鈮(鉭)酸鋰缺陷檢測設備(NOVA-2000-LN)集成明場、暗場等多種檢測模式，對各類缺陷提供可靠的缺陷信息，結合缺陷自動檢測與分類算法，提取包括缺陷類型、尺寸、坐標、統計數據等在內的各頂缺陷數據，生成晶圓缺陷檢測報告，供用戶進行質量評估和判定。
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04
圖形晶圓缺陷檢測設備
圖形晶圓缺陷檢測設備(AMM1-2000)，用于半導體制造的前道檢測，對圖形晶圓的宏觀缺陷，如劃痕、顆粒臟污、腐蝕、圖形結構缺陷等進行檢測，對集成電路芯片的性能和可靠性保證有重要作用。AMMI-2000集成明場、暗場等多種檢測模式，對圖形晶圓各類缺陷提供可靠的缺陷信息，結合缺陷自動檢測與分類算法，提取包括缺陷類型、尺寸、坐標、統計數據等在內的各項缺陷數據，生成晶圓缺陷檢測報告供用戶進行質量評估和判定。
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