工業應用設備
半導體晶圓缺陷檢測設備
01
激光共聚焦顯微鏡
激光共聚焦顯微鏡(LCM-2000)，具備光學顯微成像與激光共聚焦成像雙重檢測模式，主要用于各類材料的表面形貌與表面缺陷的三維檢測分析。
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02
光學吸收測量儀(標準版)
光學吸收測量儀(標準版)PTS-2000/PTB-2000，是一種基于激光誘導效應的光學檢測設備。可以對光學薄膜、光學晶體、激光晶體、各類石英等材料進行吸收缺陷測量和吸收均勻性分布測量。
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03
光學吸收測量儀(簡化版)
光學吸收測量儀(簡化版)PTS-1000/PTB-1000,專為薄膜、晶體、熔石英玻璃等光學材料和元件設計用于表面和體吸收特性的精密測量分析。
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04
深紫外光學吸收測量儀
深紫外光學吸收測量儀(PTS-DUV-2000/PTB-DUV-2000)，是一款基于激光誘導光熱檢測技術，專為深紫外波段光學材料和元件吸收特性檢測分析而開發的高靈敏度精密光學測試儀器。
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05
激光量熱吸收測量儀
激光量熱吸收測量儀 (LC-2000), 是一種基于激光量熱法測量光學元件弱吸收的光學檢測設備。 由泵浦激光對光學元件進行輻照加熱，采用高精度溫度探測器對激光輻照區域進行溫度測量，從而獲 得光學元件對該波長下的激光的吸收信息。 LC-2000 適用于各類光學薄膜和光學元器件吸收率的檢測和分析。根據客戶具體需求，可進行紫外 可見或者近紅外波段的精密測量。對于光學材料質量生產指導具有重要作用。
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06
光學元件激光損傷檢測及預處理設備
光學元件激光損傷檢測及預處理設備(LDT-2000-C)，主要用于測試光學元件的激光損傷閾值以保證放置于光路中的各類光學元件的強激光負載性能，應用范圍包括光學元件激光損傷測試、體材料激光損傷測試鍍膜工藝優化等。
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07
多模態表面缺陷檢測儀
多模態表面缺陷檢測儀(MMDI-2000)，結合全口徑缺陷快速識別與子孔徑高靈敏度、高分辨率顯微成像的檢測方式，對表面缺陷尺度、位置、形態進行統計分析，并可結合使用光熱弱吸收、顯微成像等不同模態檢測用戶關注的缺陷區域，獲取關注區域的缺陷信息;也可以利用微分干涉相襯顯微成像技術，實現凸起和凹坑的區分。
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08
亞表面缺陷檢測儀
亞表面缺陷檢測儀(SSDI—2000 )，集成包括光學顯微成像、激光共聚焦、熒光共聚焦選配等成像在內的多種檢測模式，用于光學元件表面、亞表面缺陷的檢測與分析，可在深度方向對樣品進行分層檢測。
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09
光學透反射率測量儀
光學透反射率測量儀(HTR-1000)，主要用于光學元件的透射率、反射率測量，能夠對反射率高達99.99%或透射率高達99.99%的光學元件的透/反特性進行高精度測量。主要針對小口徑光學元件，能夠快速、精確、高重復性的檢測光學元件的透射/反射特性。
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010
大口徑元件吸收缺陷檢測儀
大口徑元件吸收缺陷檢測儀(PTM-2000-LA)，基于光熱掃描顯微成像技術，適用于各類大口徑固體表面及亞表面缺陷的檢測和分析，特別是各類大口徑光學薄膜、光學元器件表面及亞表面吸收缺陷的檢測和分析。本系統是一款非接觸式、高分辨率、全自動化檢測儀器，可根據用戶具體需求進行紫外、可見或紅外波段的精密檢測和分析。
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011
大口徑元件散射缺陷檢測儀
大口徑元件散射缺陷檢測儀(LSDI-2000-LA、LSDI-3000-C)，適用于大口徑光學材料、半導體材料和金屬等材料拋光后的表面缺陷檢測和分析。本設備是一款非接觸式、全自動的檢測儀器，能夠快速檢測待測表面的劃痕、麻點、臟污等特性。
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012
大口徑元件缺陷多模態檢測儀
大口徑元件缺陷多模態檢測儀(MMDI-2000-LA)，結合全口徑缺陷快速識別與子孔徑高靈敏度、高分辨率顯微成像的檢測方式，可利用激光散射對大口徑光學元件進行全口徑快速掃描成像，對缺陷尺度、位置、形態進行統計分析，并結合使用光熱弱吸收、明場顯微成像、暗場顯微成像、激光共聚焦顯微成像等不同模態檢測用戶關注缺陷區域，獲得關注區域的缺陷信息。
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